A Computational Study for Screening High-Selectivity Inhibitors in Area-Selective Atomic Layer Deposition on Amorphous Surfaces

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Kim, Gijin, Kim, Purun-hanul, Hahm, Suk Gyu, Kwon, Myongjong, Park, Byungha, Hong, Changho, Han, Seungwu
Formato:	Preprint
Publicado:	2025
Materias:	Materials Science
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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https://arxiv.org/abs/2510.17356