Far-UVC Field Emission Device at 226 nm and its Sub-Nanometer thick GaN/AlN Quantum Well Anode

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Boiko, D. L., Demolon, P., Carlin, J. -F., Eriksson, E., Hoogerwerf, A., Gravesen, K. Bach, Gardner, A. Brimnes, Dubois, M. -A., Tønning, P., Ulsig, E. Zanchetta, Marin, M., Tingsborg, J., Volet, N.
Formato:	Preprint
Publicado:	2025
Materias:	Optics Applied Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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Internet

https://arxiv.org/abs/2511.03321