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Chemical vapor deposition growth of continuous monolayer antiferromagnetic CrOCl films

Fuente: arXiv

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Auteurs principaux:	Chen, Chao, Liu, Yulu, Lu, Hongyan, Wang, Zihao, Zheng, Bowen, Guo, Qian, Xiao, Jingkuan, Wang, Ping, Xu, Wanting, Han, Yulin, Chen, Mingxuan, Cai, Xiaofan, Huang, Jiabei, Han, Yaqing, Zhang, Di, Du, Renjun, Mayorov, Alexander S., Li, Ziying, Zhang, Shuai, Huang, Yi, Cheng, Tingting, Chen, Zhaolong, Liu, Ronghua, Tang, Nujiang, Ni, Haibo, Wu, Di, Gao, Libo, Xi, Xiaoxiang, Wang, Qianghua, Wang, Lei, Novoselov, Kostya S., Yu, Geliang
Format:	Preprint
Publié:	2025
Sujets:	Mesoscale and Nanoscale Physics
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