Hf/Zr Superlattice-Based High-\k{appa} Gate Dielectrics with Dipole Layer Engineering for Advanced CMOS

Fuente: arXiv

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Song, Taeyoung, Kang, Sanghyun, Kuo, Yu Hsin, Chen, Jiayi, Fernandes, Lance, Afroze, Nashrah, Tian, Mengkun, Baac, Hyoung Won, Shin, Changhwan, Khan, Asif Islam
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2025
Schlagworte:	Mesoscale and Nanoscale Physics
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https://arxiv.org/abs/2512.22505