Adaptive few-shot learning for robust part quality classification in two-photon lithography

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Jia, Sixian, Mei, Ruo-Syuan, Shao, Chenhui
Formato:	Preprint
Publicado:	2026
Materias:	Computer Vision and Pattern Recognition Machine Learning
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

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https://arxiv.org/abs/2601.08885