Topology-Directed Silicide Formation: An Explanation for the Growth of C49-TiSi$_2$ on the Si(100) Surface

Fuente: arXiv
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Auteurs principaux: Hückmann, Lukas, Cottom, Jonathon, Meyer, Jörg, Olsson, Emilia
Format: Preprint
Publié: 2026
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