Physics Guided Exponential Model Design of High Ge Content SiGe Selective Epitaxy for Gate All Around Source/Drain Applications

Fuente: arXiv
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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Li, Zhigang, Bai, Guobin, Cui, Hengwei, Yao, Wenlong, Gao, Jianfeng, Jiang, Qifeng, Li, Junjie, Li, Junfeng, Li, Yongliang, Yin, Huaxiang, Wang, Xiaolei, Luo, Jun
Formato: Preprint
Publicado: 2026
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