A stochastic simulation of the dislocation-mediated etching of porous GaN distributed Bragg reflectors

Fuente: arXiv
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Hauptverfasser: Sokolinski, Piotr, Thornley, Ben, Xu, Zetai, Harris-Lee, Thom R., Kappers, Menno J., Oliver, Rachel A.
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2026
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