Quantum Simulations for Extreme Ultraviolet Photolithography

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Kharazi, Tyler D., Fomichev, Stepan, Kanno, Shu, Kobayashi, Takao, Arrazola, Juan Miguel, Gao, Qi, Stetina, Torin F.
Formato:	Preprint
Publicado:	2026
Materias:	Quantum Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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