High-resolution resonant inelastic X-ray scattering study of W-L3 edge in WSi2

Fuente: arXiv

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Zhao, Zheqian, Wang, Shuxing, Wang, Xiyuan, Su, Yang, Ma, Ziru, Huang, Xinchao, Zhu, Linfan
Formato:	Preprint
Publicado:	2026
Materias:	Quantum Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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Internet

https://arxiv.org/abs/2603.09561