High-resolution resonant inelastic X-ray scattering study of W-L3 edge in WSi2

Fuente: arXiv
Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Zhao, Zheqian, Wang, Shuxing, Wang, Xiyuan, Su, Yang, Ma, Ziru, Huang, Xinchao, Zhu, Linfan
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2026
Schlagworte:
Online-Zugang:
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Ähnliche Einträge