ALD Oxidant as A Tuning Knob for Memory Window Expansion in Ferroelectric FETs for Vertical NAND Applications

Fuente: arXiv

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Jeyakumar, Ranie, Venkatesan, Prasanna, Fernandes, Lance, Soliman, Salma, Ravikumar, Priyankka, Song, Taeyoung, Zhang, Chengyang, Hwang, Woohyun, Seo, Kwangyou, Lim, Suhwan, Kim, Wanki, Ha, Daewon, Yu, Shimeng, Datta, Suman, Khan, Asif
Format:	Preprint
Veröffentlicht:	2026
Schlagworte:	Materials Science
Online-Zugang:	Acceder al recurso
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