Atomic-Scale Mechanisms of SiO$_2$ Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Revealed by Molecular Dynamics with a Machine-Learning Interatomic Potential

Fuente: arXiv
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Hauptverfasser: Kim, Jaehoon, Moon, Minseok, Cho, Hyunsung, Kim, Hyeon-Deuk, Kim, Rokyeon, Park, Gyehyun, Han, Seungwu, Kang, Youngho
Format: Preprint
Veröffentlicht: 2026
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