Tuning Cu/Diamond Interfacial Thermal Conductance via Nitrogen-Termination Engineering

Fuente: arXiv
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Auteurs principaux: Yang, Guang, Tang, Xinling, Lin, Zhongkang, Gu, Yulin, Hao, Wei, Du, Yujie, Wei, Xiaoguang
Format: Preprint
Publié: 2026
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