A chemical language model for reticular materials design

Fuente: arXiv

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Dettagli Bibliografici
Autori principali:	Menon, Dhruv, Singh, Vivek, Chen, Xu, Kiapi, Mohammad Reza Alizadeh, Zyuzin, Ivan, Macleod, Hamish W., Rampal, Nakul, Shepard, William, Yaghi, Omar M., Fairen-Jimenez, David
Natura:	Preprint
Pubblicazione:	2026
Soggetti:	Materials Science Machine Learning Chemical Physics
Accesso online:	Acceder al recurso
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Descrizione
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