2.5-D Electrical Resistivity Forward Modelling with Undulating Topography using a Modified Half-Space Analytical Solution

Fuente: arXiv
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Auteurs principaux: K., Naveen, Koch, Michael C., Fujisawa, Kazunori, Dey, Arindam, S, Sreedeep
Format: Preprint
Publié: 2026
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