Machine learning Hamiltonian enables scalable and accurate defect calculations: The case of oxygen vacancies in amorphous SiO$_2$

Fuente: arXiv
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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Dai, Zhenxing, Yang, Zhong, Ni, Mingjue, Huang, Menglin, Xiang, Hongjun, Gong, Xin-Gao, Chen, Shiyou
Formato: Preprint
Publicado: 2026
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