Fully Atomic-Layer-Deposited Vertical Complementary FeRAM with Ultra-High 2Pr > 100 uC/cm2 and High Endurance > 1E10 cycles

Fuente: arXiv
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Auteurs principaux: Xue, Renhao, Yan, Ruizhan, Chan, Mansun, Liu, Xiwen
Format: Preprint
Publié: 2026
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