Si/SiGe multi-channel superlattice structure epitaxial growth with segmented temperature control for Next-Generation Logic Devices

Fuente: arXiv

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Yao, Wenlong, Li, Zhigang, Bai, Guobin, Gao, Jianfeng, Yu, Jiahan, Li, Junfeng, Wang, Xiaolei, Luo, Jun
Formato:	Preprint
Publicado:	2026
Materias:	Materials Science Applied Physics
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet

https://arxiv.org/abs/2605.05667