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| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Artículo científico |
| Lenguaje: | pt |
| Publicado: |
Universidade FUMEC
2011
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=194022079004 |
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Tabla de Contenidos:
- ESTILOS COGNITIVOS E INTENÇÃO DE USO DOS SISTEMAS DE INFORMAÇÃO Vania de Fátima Barros Estivalete Monize Sâmara Visentini Mauri Leodir Löbler Taís de Andrade Administración y Contabilidad Estilos cognitivos Sistemas de informação Intenção de uso dos SI Por meio deste trabalho, busca-se aliar a compreensão de fenômenos cognitivos à intenção de uso dos Sistemas de Informação (SI). Para tanto, apoiou-se na perspectiva teórica dos estilos cognitivos (KIRTON, 1976) e na Teoria Unifi cada de Aceitação e Uso da Tecnologia (UTAUT), de Venkatesh et al. (2003). Assim, objetivou-se identifi car se os estilos cognitivos infl uenciam a intenção de usar os SI, juntamente com os fatores pré-defi nidos no UTAUT. Por meio de uma survey, foram investigados 170 colaboradores de uma empresa do varejo calçadista. Quanto ao estilo cognitivo, mostrou-se predominante o estilo inovador. Já com relação ao UTAUT, o fator Intenção de Uso apresentou maior relevância. Observou-se, também, diferençasignifi cativa de percepção entre os estilos cognitivos e as dimensões que infl uenciam a intenção e o uso dos SI. A partir desta verifi cação, realizou-se uma análise de regressão últipla, a qual demonstrou infl uência do estilo cognitivo e dos fatores Expectativa de Esforço e Expectativa de Performance na intenção de usar os SI, explicando em 60,6% a variância do modelo. Concluiu-se, desta forma, que os estilos cognitivos assumem importância na análise do sucesso dos SI e, ou, na identifi cação da intenção de uso dos mesmos. Salienta-se ainda que todas as hipóteses propostas foram corroboradas. 2011 artículo científico 1517-8900 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=194022079004 pt http://www.redalyc.org/revista.oa?id=1940 Revista de Administração FACES Journal application/pdf Universidade FUMEC Revista de Administração FACES Journal (Brasil) Num.2 Vol.10