Influencia del bombardeo iónico sobre películas delgadas de nitruro de boro cúbico depositadas por pulverización catódica r. f.
Fuente:
Redalyc
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|---|---|
| Format: | Artículo científico |
| Langue: | es |
| Publié: |
Universidad de Antioquia
2006
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| _version_ | 1876430151198179328 |
|---|---|
| author | Gilberto Bejarano Gaitán |
| author_facet | Gilberto Bejarano Gaitán |
| contents | Influencia del bombardeo iónico sobre películas delgadas de nitruro de boro cúbico depositadas por pulverización catódica r. f. Gilberto Bejarano Gaitán José Manuel Roque Caicedo Eval Baca Miranda Pedro Prieto Pulido Gustavo Zambrano Ingeniería bombardeo iónico pulverización catódica nitruro de boro cúbico Películas delgadas de nitruro de boro cúbico (c-BN) fueron depositadas mediantela técnica del d. c. y r. f. (13,56 MHz) magnetron sputtering multi-blanco, utilizandoun blanco de nitruro de boro hexagonal (h-BN) con una pureza de 99,9%y una mezcla de gas Ar (95%) y N2 (5%). Los recubrimientos se depositaron auna temperaturas de 300 y 900 °C y a densidades de potencia de 7 y 24 W/cm2.Con el propósito de obtener la mayor fracción posible de fase cúbica del BN, seaplicó un Bias d. c. entre 0-250 V, así como también un bias r. f. entre 0-350 Vdurante la fase de crecimiento del recubrimiento. La microestrutura, composición,morfología, topografía y espesor de las películas se caracterizaron mediante espectroscopiaen el infrarrojo por transformadas de Fourier (FTIR) y microscopíade fuerza atómica (AFM). Las películas de c-BN depositadas a 300 °C, a unapresión de 4 x 10-3 mbar y un bias r. f. del substrato de -150 V durante el periodode crecimiento por un tiempo 35 min, presentaron la mayor fracción de fase cúbicade aproximadamente 85%. 2006 artículo científico 0120-6230 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=43003718 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=430 Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia application/pdf Universidad de Antioquia Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia (Colombia) Num.37 |
| format | Artículo científico |
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| institution | Redalyc |
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| publishDate | 2006 |
| publisher | Universidad de Antioquia |
| spellingShingle | Influencia del bombardeo iónico sobre películas delgadas de nitruro de boro cúbico depositadas por pulverización catódica r. f. Gilberto Bejarano Gaitán Ingeniería bombardeo iónico pulverización catódica nitruro de boro cúbico Influencia del bombardeo iónico sobre películas delgadas de nitruro de boro cúbico depositadas por pulverización catódica r. f. Gilberto Bejarano Gaitán José Manuel Roque Caicedo Eval Baca Miranda Pedro Prieto Pulido Gustavo Zambrano Ingeniería bombardeo iónico pulverización catódica nitruro de boro cúbico Películas delgadas de nitruro de boro cúbico (c-BN) fueron depositadas mediantela técnica del d. c. y r. f. (13,56 MHz) magnetron sputtering multi-blanco, utilizandoun blanco de nitruro de boro hexagonal (h-BN) con una pureza de 99,9%y una mezcla de gas Ar (95%) y N2 (5%). Los recubrimientos se depositaron auna temperaturas de 300 y 900 °C y a densidades de potencia de 7 y 24 W/cm2.Con el propósito de obtener la mayor fracción posible de fase cúbica del BN, seaplicó un Bias d. c. entre 0-250 V, así como también un bias r. f. entre 0-350 Vdurante la fase de crecimiento del recubrimiento. La microestrutura, composición,morfología, topografía y espesor de las películas se caracterizaron mediante espectroscopiaen el infrarrojo por transformadas de Fourier (FTIR) y microscopíade fuerza atómica (AFM). Las películas de c-BN depositadas a 300 °C, a unapresión de 4 x 10-3 mbar y un bias r. f. del substrato de -150 V durante el periodode crecimiento por un tiempo 35 min, presentaron la mayor fracción de fase cúbicade aproximadamente 85%. 2006 artículo científico 0120-6230 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=43003718 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=430 Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia application/pdf Universidad de Antioquia Revista Facultad de Ingeniería Universidad de Antioquia (Colombia) Num.37 |
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