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Analysis of SiO2 Thin Films Deposited by PECVD Using an Oxygen-TEOS-Argon Mixture

Fuente: Redalyc

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	Carlos E. Viana
Format:	Artículo científico
Sprache:	en
Veröffentlicht:	Sociedade Brasileira de Física 2001
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas
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