Influence of process parameters on the growth of pure-phase anatase and rutile TiO2 thin films deposited by low temperature reactive magnetron sputtering
Fuente:
Redalyc
Salvato in:
| Autore principale: | |
|---|---|
| Natura: | Artículo científico |
| Lingua: | en |
| Pubblicazione: |
Sociedade Brasileira de Física
2010
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| Soggetti: | |
| Accesso online: | |
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