Influence of process parameters on the growth of pure-phase anatase and rutile TiO2 thin films deposited by low temperature reactive magnetron sputtering
Fuente:
Redalyc
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Artículo científico |
| Sprache: | en |
| Veröffentlicht: |
Sociedade Brasileira de Física
2010
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