Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition
Fuente:
Redalyc
Guardado en:
| Autor principal: | |
|---|---|
| Formato: | Artículo científico |
| Lenguaje: | en |
| Publicado: |
Sociedade Brasileira de Física
2004
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | |
| Etiquetas: |
Agregar Etiqueta
Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!
|
| _version_ | 1876453570875752448 |
|---|---|
| author | H. Riascos |
| author_facet | H. Riascos |
| contents | Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition H. Riascos G. Zambrano P. Prieto Física, Astronomía y Matemáticas 2004 artículo científico 0103-9733 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46434814 en http://www.redalyc.org/revista.oa?id=464 Brazilian Journal of Physics application/pdf Sociedade Brasileira de Física Brazilian Journal of Physics (Brasil) Num.4B Vol.34 |
| format | Artículo científico |
| id | redalyc_46434814 |
| institution | Redalyc |
| language | en |
| publishDate | 2004 |
| publisher | Sociedade Brasileira de Física |
| spellingShingle | Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition H. Riascos Física, Astronomía y Matemáticas Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition H. Riascos G. Zambrano P. Prieto Física, Astronomía y Matemáticas 2004 artículo científico 0103-9733 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46434814 en http://www.redalyc.org/revista.oa?id=464 Brazilian Journal of Physics application/pdf Sociedade Brasileira de Física Brazilian Journal of Physics (Brasil) Num.4B Vol.34 |
| title | Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition |
| topic | Física, Astronomía y Matemáticas |
| url | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46434814 |