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Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition

Fuente: Redalyc

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	H. Riascos
Format:	Artículo científico
Sprache:	en
Veröffentlicht:	Sociedade Brasileira de Física 2004
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas
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