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Hydrogen Influence on Gallium Arsenide Thin Films Prepared by RF-Magnetron Sputtering Technique

Fuente: Redalyc

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Detalles Bibliográficos
Autor principal:	R. Bustamante
Formato:	Artículo científico
Lenguaje:	en
Publicado:	Sociedade Brasileira de Física 2006
Materias:	Física, Astronomía y Matemáticas RF Hydrogen Gallium arsenide magnetron sputtering
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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