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Caracterización eléctrica de películas delgadas de WO3 depositadas por sputtering no reactivo

Fuente: Redalyc

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Detalles Bibliográficos
Autor principal:	I. Riech
Formato:	Artículo científico
Lenguaje:	es
Publicado:	Universidad Autónoma de Yucatán 2012
Materias:	Computación erosión catódica Trióxido de tungsteno resistividad eléctrica
Acceso en línea:	Acceder al recurso
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