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| Main Author: | |
|---|---|
| Format: | Artículo científico |
| Language: | es |
| Published: |
Universidad Autónoma de Yucatán
2012
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46724109004 |
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Table of Contents:
- Caracterización eléctrica de películas delgadas de WO3 depositadas por sputtering no reactivo I. Riech M. Acosta E. Flores-Cuevas V. Rejón-Moo Computación erosión catódica Trióxido de tungsteno resistividad eléctrica Se depositaron películas delgadas de trióxido de tungsteno sobre vidrio por la técnica de erosión catódica, variando la presión de trabajo, PAr, desde 20 hasta 80 mTorr. La morfología superficial de las películas preparadas resultó ser muy similar independientemente de la presión de trabajo utilizada. La resistividad eléctrica fue investigada en función de la temperatura en el rango de 300 - 675 K. La película delgada depositada a 20 mTorr mostró un valor de resistividad menor que las otras películas como consecuencia de diferencias en el transporte de las especies en el gas de fondo. Las energías de activación para la conducción se encontraron que dependen de PAr. Nosotros interpretamos estos resultados por la formación de vacancias de oxígeno, cuya concentración depende de la presión de trabajo, aunque no se introdujo oxígeno intencionalmente en el sistema de crecimiento. 2012 artículo científico 1665-529X https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46724109004 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=467 Ingeniería application/pdf Universidad Autónoma de Yucatán Ingeniería (México) Num.1 Vol.16