Sequential microcontroller-based control for a chemical vapor deposition process

Fuente: Redalyc

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Auteur principal:	Edgar Serrano Pérez
Format:	Artículo científico
Langue:	en
Publié:	Universidad Nacional Autónoma de México 2017
Sujets:	Ingeniería Thin films Microcontroller Direct liquid injection Chemical vapor deposition
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