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| Autore principale: | |
|---|---|
| Natura: | Artículo científico |
| Lingua: | es |
| Pubblicazione: |
Sociedad Química de México
2000
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| Soggetti: | |
| Accesso online: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=47544404 |
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| _version_ | 1866558176009125888 |
|---|---|
| author | Carlos Ríos Martínez |
| author_facet | Carlos Ríos Martínez |
| contents | Deposición selectiva de cobre utilizando CVD Carlos Ríos Martínez Horacio Flores Zúñiga Jorge Ramírez Ortiz Tetsuya Ogura Multidisciplinaria (Ciencias Naturales y Exactas) CVD cobre película deposición selectiva deposición química de vapor La deposición química de vapor (CVD) es una técnica que se ha utilizado con éxito para obtener películas metálicas delgadas de cobre. Adicionalmente, mediante el tratamiento previo del substrato se puede depositar selectivamente, esto es, recubrir sólo aquellas regiones predeterminadas del substrato. En este trabajo se presentanlos resultados de la producción in situ de semillas de algunos metalesempleados con éxito en el depósito selectivo de Cu sobre obleas de silicio. 2000 artículo científico 1870-249X https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=47544404 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=475 Journal of the Mexican Chemical Society application/pdf Sociedad Química de México Journal of the Mexican Chemical Society (México) Num.4 Vol.44 |
| format | Artículo científico |
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| publishDate | 2000 |
| publisher | Sociedad Química de México |
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| title | Deposición selectiva de cobre utilizando CVD |
| topic | Multidisciplinaria (Ciencias Naturales y Exactas) CVD cobre película deposición selectiva deposición química de vapor |
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