Characterization of Thin Films Deposited by Physical Vapor Deposition (PVD), Using Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Technique
Fuente:
Redalyc
Gespeichert in:
| 1. Verfasser: | |
|---|---|
| Format: | Artículo científico |
| Sprache: | en |
| Veröffentlicht: |
Sociedad Química de México
2015
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| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | |
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