Characterization of Thin Films Deposited by Physical Vapor Deposition (PVD), Using Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS) Technique

Fuente: Redalyc

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Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Jorge Morales Hernández
Formato:	Artículo científico
Lenguaje:	en
Publicado:	Sociedad Química de México 2015
Materias:	Multidisciplinaria (Ciencias Naturales y Exactas) PVD Corrosion Thin films nanodefects DC sputtering
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

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