Síntesis, caracterización y evaluación fotocatalítica de sistemas ZrO2-SiO2

Fuente: Redalyc
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Main Author: JUAN M. MARÍN
Format: Artículo científico
Language:es
Published: Universidad Nacional de Colombia 2006
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author JUAN M. MARÍN
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contents Síntesis, caracterización y evaluación fotocatalítica de sistemas ZrO2-SiO2 JUAN M. MARÍN MANUEL MACÍAS JOSÉ A. NAVÍO GLORIA RESTREPO LUIS RIOS MARÍA ISABEL MEJÍA Ingeniería Sol gel Óxido mixto Fotocatálisis Óxido de zirconio La incorporación de un óxido a la matriz de un segundo produce cambios en las propiedadessuperficiales del sistema inicial, así como modificaciones en la estructura electrónica del material; de hecho, larecombinación de portadores de cargas en un material semiconductor se ve modificada por la incorporación de otroelemento a la red del semiconductor. En particular, las propiedades estructurales, morfológicas, superficiales ycatalíticas del óxido de zirconio se ven afectadas al depositarlo sobre otro que actúe como matriz de soporte. En estetrabajo se han preparado óxidos mixtos ZrO2-SiO2 empleando el método sol gel de precipitación seguido de diversostratamientos térmicos. Los materiales así obtenidos fueron caracterizados por diversas técnicas evaluándose ademássu actividad fotocatalítica en la degradación del 3-nitrofenol. Si bien el comportamiento fotocatalítico del sistemaZrO2-SiO2 no difiere del que exhiben los óxidos simples ZrO2 y SiO2, las propiedades de estos materiales tipo óxidomixto sí están fuertemente condicionadas no sólo por el método de preparación sino por los tratamientos decalcinación. 2006 artículo científico 0012-7353 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=49615008 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=496 Dyna application/pdf Universidad Nacional de Colombia Dyna (Colombia) Num.150 Vol.73
format Artículo científico
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publishDate 2006
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Síntesis, caracterización y evaluación fotocatalítica de sistemas ZrO2-SiO2 JUAN M. MARÍN MANUEL MACÍAS JOSÉ A. NAVÍO GLORIA RESTREPO LUIS RIOS MARÍA ISABEL MEJÍA Ingeniería Sol gel Óxido mixto Fotocatálisis Óxido de zirconio La incorporación de un óxido a la matriz de un segundo produce cambios en las propiedadessuperficiales del sistema inicial, así como modificaciones en la estructura electrónica del material; de hecho, larecombinación de portadores de cargas en un material semiconductor se ve modificada por la incorporación de otroelemento a la red del semiconductor. En particular, las propiedades estructurales, morfológicas, superficiales ycatalíticas del óxido de zirconio se ven afectadas al depositarlo sobre otro que actúe como matriz de soporte. En estetrabajo se han preparado óxidos mixtos ZrO2-SiO2 empleando el método sol gel de precipitación seguido de diversostratamientos térmicos. Los materiales así obtenidos fueron caracterizados por diversas técnicas evaluándose ademássu actividad fotocatalítica en la degradación del 3-nitrofenol. Si bien el comportamiento fotocatalítico del sistemaZrO2-SiO2 no difiere del que exhiben los óxidos simples ZrO2 y SiO2, las propiedades de estos materiales tipo óxidomixto sí están fuertemente condicionadas no sólo por el método de preparación sino por los tratamientos decalcinación. 2006 artículo científico 0012-7353 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=49615008 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=496 Dyna application/pdf Universidad Nacional de Colombia Dyna (Colombia) Num.150 Vol.73
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