Recubrimientos de (ti,al)n sobre acero aisi 4140 por sputtering reactivo

Fuente: Redalyc
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1. Verfasser: DANNA GARCIA
Format: Artículo científico
Sprache:es
Veröffentlicht: Universidad Nacional de Colombia 2007
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author DANNA GARCIA
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contents Recubrimientos de (ti,al)n sobre acero aisi 4140 por sputtering reactivo DANNA GARCIA ULISES PIRATOBA ALVARO MARIÑO Ingeniería (Ti Al)N rf Sputtering Recubrimientos duros Pulverización catódica Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (MagnetronSputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizó un blancoformado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) yuna razón de presiones parciales de nitrógeno - argón, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura delsustrato se varió entre 260 y 330 ºC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas condiferentes espesores. La composición química de las películas se determinó mediante la técnica de energíadispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopía de fuerza atómica (AFM). Igualmente semidió micro dureza, y se determinó su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedanciaelectroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y depequeño diámetro, con características electroquímicas de protección al sustrato frente a procesos de corrosión. 2007 artículo científico 0012-7353 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=49615217 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=496 Dyna application/pdf Universidad Nacional de Colombia Dyna (Colombia) Num.152 Vol.74
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Recubrimientos duros
Pulverización catódica
Recubrimientos de (ti,al)n sobre acero aisi 4140 por sputtering reactivo DANNA GARCIA ULISES PIRATOBA ALVARO MARIÑO Ingeniería (Ti Al)N rf Sputtering Recubrimientos duros Pulverización catódica Empleando la técnica de Pulverización catódica con radiofrecuencia y magnetrón (MagnetronSputtering RF), se prepararon películas de (Ti,Al)N sobre sustratos de acero AISI 4140. Se utilizó un blancoformado con polvos metálicos de Ti y Al, con composición nominal 60% Ti y 40% Al (porcentaje en átomos) yuna razón de presiones parciales de nitrógeno - argón, PN2/PAr de 0,1 aproximadamente; la temperatura delsustrato se varió entre 260 y 330 ºC y el tiempo de deposición entre 2 y 4,5 horas para obtener películas condiferentes espesores. La composición química de las películas se determinó mediante la técnica de energíadispersada de rayos X (EDX), y su topografía mediante microscopía de fuerza atómica (AFM). Igualmente semidió micro dureza, y se determinó su comportamiento electroquímico mediante espectroscopia de impedanciaelectroquímica EIS y ensayos TAFEL. Las películas obtenidas presentaron granos globulares, uniformes y depequeño diámetro, con características electroquímicas de protección al sustrato frente a procesos de corrosión. 2007 artículo científico 0012-7353 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=49615217 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=496 Dyna application/pdf Universidad Nacional de Colombia Dyna (Colombia) Num.152 Vol.74
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