Optimización del consumo de disolvente Lule 10 en un proceso litográfico a partir de la metodología DMAMC de programas seis sigma

Fuente: Redalyc
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1. Verfasser: Néstor Caicedo Solano
Format: Artículo científico
Sprache:es
Veröffentlicht: Universidad Autónoma del Caribe 2013
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