Calentador de sustratos compacto y de bajo costo para tratamiento térmico in situ de películas delgadas depositadas por rf-sputtering

Fuente: Redalyc
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Detalles Bibliográficos
Autor principal: A. Márquez-Herrera
Formato: Artículo científico
Lenguaje:es
Publicado: Sociedad Mexicana de Física A.C. 2010
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