TiO2 and Al2O3 ultra thin nanolaminates growth by ALD; instrument automation and films characterization

Fuente: Redalyc

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	H. Tiznado
Format:	Artículo científico
Sprache:	en
Veröffentlicht:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2012
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas automation ellipsometry nanolaminates instrumentation Atomic layer deposition
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