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P+ shallow junctions with high energy and high concentration of B or BF2 ion implants

Fuente: Redalyc

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Dettagli Bibliografici
Autore principale:	J. Plaza Castillo
Natura:	Artículo científico
Lingua:	en
Pubblicazione:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Soggetti:	Física, Astronomía y Matemáticas EOR TED BF2 implants boro implants abrupt profiles
Accesso online:	Acceder al recurso
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