Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS

Fuente: Redalyc

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Bibliographic Details
Main Author:	C. Álvarez-Macias
Format:	Artículo científico
Language:	es
Published:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Subjects:	Física, Astronomía y Matemáticas MEMS grabado seco Silicio monocristalino
Online Access:	Acceder al recurso
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