Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS

Fuente: Redalyc
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Auteur principal: C. Álvarez-Macias
Format: Artículo científico
Langue:es
Publié: Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
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