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Influence of the carrier gas in the growth kinetics of TiO2 films deposited by aerosol assisted chemical vapor deposition with titanium-diisopropoxide as precursor

Fuente: Redalyc

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Détails bibliographiques
Auteur principal:	M. Guerrero
Format:	Artículo científico
Langue:	en
Publié:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2006
Sujets:	Física, Astronomía y Matemáticas metal TiO2 films spray pyrolysis Growth mechanisms organic chemical vapor deposition
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