Ion beam analysis of CH/Si layers deposited by ECR-CVD

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Bibliographic Details
Main Author:	J.A. Mejía Hernández
Format:	Artículo científico
Language:	en
Published:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Subjects:	Física, Astronomía y Matemáticas thin films IBA methods Plasma enhanced chemical vapor deposition
Online Access:	Acceder al recurso 1 Acceder al recurso 2 Acceder al recurso 3 Acceder al recurso 4 Acceder al recurso 5
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