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Ion beam analysis of CH/Si layers deposited by ECR-CVD

Fuente: Redalyc

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	J.A. Mejía Hernández
Format:	Artículo científico
Sprache:	en
Veröffentlicht:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas thin films IBA methods Plasma enhanced chemical vapor deposition
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