Technological stress and the intention to stay in organizations: Do the quality of life and work-home conflict mediate this relationship?

Fuente: Redalyc
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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Ozaias Wagner Ferreira de Carvalho
Formato: Artículo científico
Lenguaje:en
Publicado: Universidade Federal do Ceará 2021
Materias:
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