Cu4O3 thin films deposited by non-reactive rf-magnetron sputtering from a copper oxide target

Fuente: Redalyc

Guardado en:

Detalles Bibliográficos
Autor principal:	M. A Cruz Almazan
Formato:	Artículo científico
Lenguaje:	en
Publicado:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2021
Materias:	Física, Astronomía y Matemáticas Cu4O3 Paramelaconite thermal oxidation non reactive sputtering
Acceso en línea:	Acceder al recurso
Etiquetas:	Agregar Etiqueta Sin Etiquetas, Sea el primero en etiquetar este registro!

Internet