Implementación de un sistema de depósito químico en fase vapor asistido por filamento caliente (HFCVD) para la obtención del semiconductor trióxido de tungsteno (WO3)
Fuente:
Redalyc
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|---|---|
| Format: | Artículo científico |
| Language: | es |
| Published: |
Instituto Politécnico Nacional
2022
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