Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas

Fuente: Redalyc

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Bibliographic Details
Main Author:	M. Arroyave
Format:	Artículo científico
Language:	es
Published:	Universidad de Tarapacá 2015
Subjects:	Ingeniería DLC ECVD microondas películas delgadas simulación numérica
Online Access:	Acceder al recurso
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