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Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas

Fuente: Redalyc

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Détails bibliographiques
Auteur principal:	M. Arroyave
Format:	Artículo científico
Langue:	es
Publié:	Universidad de Tarapacá 2015
Sujets:	Ingeniería DLC ECVD microondas películas delgadas simulación numérica
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