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Diseño e implementación de un reactor de deposición química de vapor para producir películas delgadas

Fuente: Redalyc

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Dettagli Bibliografici
Autore principale:	M. Arroyave
Natura:	Artículo científico
Lingua:	es
Pubblicazione:	Universidad de Tarapacá 2015
Soggetti:	Ingeniería DLC ECVD microondas películas delgadas simulación numérica
Accesso online:	Acceder al recurso
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