Reactor de filamento caliente en la producción de películas de carbón con la técnica CVD

Fuente: Redalyc
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Main Author: Jose Israel Cardenas Jiménez
Format: Artículo científico
Language:es
Published: Universidad Tecnológica de Pereira 2007
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author Jose Israel Cardenas Jiménez
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contents Reactor de filamento caliente en la producción de películas de carbón con la técnica CVD Jose Israel Cardenas Jiménez Carlos Vargas Hernandez Ingeniería CVD DLC Carbón rayos X Filamento Caliente Se diseñó y construyó un reactor de filamento caliente (HF) para producirpelículas de carbón por la técnica de depósito químico en fase vapor (CVD).Esta técnica se puede implementar con diferentes tipos de substratos. Lacaracterización de las películas de carbón se realizó utilizando difracción deRayos X y Microscopía de Fuerza Atómica (AFM). El objetivo del crecimientode las películas es mostrar que este reactor es viable para este tipo de estructurasde carbón donde se pueden obtener las diferentes fases alotrópicas. Las muestrasde películas de carbón mostraron que bajo las condiciones de experimentaciónen el reactor, una de los grandes inconvenientes es el control de manera muyprecisa del vacío residual y la relación entre los gases CH4/H2. También serequiere de un filamento de punto de fusión alto con un posible apantallamientoeléctrico para que impurezas que salen de este no se depositen en el substrato. 2007 artículo científico 0122-1701 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=84934078 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=849 Scientia Et Technica application/pdf Universidad Tecnológica de Pereira Scientia Et Technica (Colombia) Num.34 Vol.XIII
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institution Redalyc
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publisher Universidad Tecnológica de Pereira
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Jose Israel Cardenas Jiménez
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Reactor de filamento caliente en la producción de películas de carbón con la técnica CVD Jose Israel Cardenas Jiménez Carlos Vargas Hernandez Ingeniería CVD DLC Carbón rayos X Filamento Caliente Se diseñó y construyó un reactor de filamento caliente (HF) para producirpelículas de carbón por la técnica de depósito químico en fase vapor (CVD).Esta técnica se puede implementar con diferentes tipos de substratos. Lacaracterización de las películas de carbón se realizó utilizando difracción deRayos X y Microscopía de Fuerza Atómica (AFM). El objetivo del crecimientode las películas es mostrar que este reactor es viable para este tipo de estructurasde carbón donde se pueden obtener las diferentes fases alotrópicas. Las muestrasde películas de carbón mostraron que bajo las condiciones de experimentaciónen el reactor, una de los grandes inconvenientes es el control de manera muyprecisa del vacío residual y la relación entre los gases CH4/H2. También serequiere de un filamento de punto de fusión alto con un posible apantallamientoeléctrico para que impurezas que salen de este no se depositen en el substrato. 2007 artículo científico 0122-1701 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=84934078 es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=849 Scientia Et Technica application/pdf Universidad Tecnológica de Pereira Scientia Et Technica (Colombia) Num.34 Vol.XIII
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