Deposición de películas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PACVD

Fuente: Redalyc
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Main Author: César Orlando Vargas Barrera
Format: Artículo científico
Language:es
Published: Universidad Tecnológica de Pereira 2018
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author César Orlando Vargas Barrera
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contents Deposición de películas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PACVD César Orlando Vargas Barrera Gil Capote Rodríguez Jesús Manuel Gutiérrez Bernal Ingeniería PACVD Diamond Microestructura like carbon (DLC) Propiedades mecánicas Películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) fueron depositadas por la técnica de deposición química en fase vapor asistida por plasma, utilizando una fuente de corriente directa pulsada asimétrica (DC-pulsada PACVD). Las películas fueron crecidas sobre sustratos de silicio empleando metano como gas precursor y una presión de trabajo de 10 Pa. El estudio fue realizado variando la tensión negativa de autopolarización aplicada al cátodo. Los resultados obtenidos muestran que fue posible obtener recubrimientos protectores de a-C:H con una aceptable tasa de depósito, así como con propiedades atrayentes en cuanto a su microestructura y propiedades mecánicas. 2018 artículo científico 0122-1701 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=84958001021 https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/ https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/html/ https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/84958001021.epub https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/movil es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=849 Scientia Et Technica application/pdf Universidad Tecnológica de Pereira Scientia Et Technica (Colombia) Num.2 Vol.23
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Deposición de películas de carbono amorfo hidrogenado usando la técnica DC-pulsada PACVD César Orlando Vargas Barrera Gil Capote Rodríguez Jesús Manuel Gutiérrez Bernal Ingeniería PACVD Diamond Microestructura like carbon (DLC) Propiedades mecánicas Películas delgadas de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) fueron depositadas por la técnica de deposición química en fase vapor asistida por plasma, utilizando una fuente de corriente directa pulsada asimétrica (DC-pulsada PACVD). Las películas fueron crecidas sobre sustratos de silicio empleando metano como gas precursor y una presión de trabajo de 10 Pa. El estudio fue realizado variando la tensión negativa de autopolarización aplicada al cátodo. Los resultados obtenidos muestran que fue posible obtener recubrimientos protectores de a-C:H con una aceptable tasa de depósito, así como con propiedades atrayentes en cuanto a su microestructura y propiedades mecánicas. 2018 artículo científico 0122-1701 https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=84958001021 https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/ https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/html/ https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/84958001021.epub https://www.redalyc.org/journal/849/84958001021/movil es http://www.redalyc.org/revista.oa?id=849 Scientia Et Technica application/pdf Universidad Tecnológica de Pereira Scientia Et Technica (Colombia) Num.2 Vol.23
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